ISSCC官网现已公布2025 IEEE ISSCC国际固态电路会议的日程,该会议将于明年2月16日~20日在美国加州旧金山举行。
OgTSx
<hMtE/05B 包括英特尔CEO帕特・基辛格、三星电子DS部存储器业务总裁兼总经理李祯培在内的四位业内人士将在17日的全体会议上发表演讲。帕特・基辛格将介绍AI领域各层级的一系列技术,李祯培则将聚焦各类AI存储器及其发展。
NJ>,'s
:r^klJ(m 在具体会议日程中,SRAM、非易失性存储与DRAM专题均在2月19日举行。
p~FQcW'a~ 9c6 ' 其中台积电将介绍存储密度达38.1 Mb/mm2的2nm Nanosheet制程SRAM,英特尔也将展示采用BSPDN背面供电设计的Intel 18A RibbonFET工艺高密度SRAM。
F1\`l{B,\
qlEFJ5; 而在非易失性存储与DRAM领域,各主题内容如下:
m6eFXP1U kI<WvgoL 三星电子将带来28Gb/mm2密度的4XX层堆叠1Tb容量3D TLC NAND,该闪存采用晶圆键合技术,I/O引脚速率达5.6Gb/s(对应5600MT/s),结合IT之家此前报道预计对应第10代V-NAND。
5<^'Cy 0 S2v"(_T 铠侠-西部数据联盟将介绍I/O引脚速率4.8Gb/s的1Tb 3D TLC NAND,该产品读取操作能效提升了29%。
QjqBO+ Q;Q%SI`yT 在GDDR7方面,三星电子将介绍42.5Gbps的24Gb产品,应对应今年10月宣布成功开发的型号。
yqYhe-" *3P3M}3~\ 三星电子还将展出第5代10nm级(1bnm、12nm级)工艺的超高速16Gb LPDDR5-Ultra-Pro DRAM,这一产品的I/O引脚速率达12.7Gb/s,较已量产的10.7Gb/s进一步提升。
7Zo&+ Nr%(2[$ = 而SK海力士则将带来75MB/s编程吞吐量的321层(V9)2Tb QLC NAND,这一堆叠数量和单元结构的闪存此前已在今年8月的FMS 2024展会上亮相。
qj`,qm
P 0s)cVYppe SK海力士还将同铠侠一同介绍双方合作开发的新型64Gb DDR4 STT-MRAM,该存储器件结合了交叉点存储和磁隧道节结构。
RA}U#D:$i